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Low-temperature anodic oxidation of silicon using a wave resonance plasma source
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作者：
Uchikoga, S.
Lai, D.F.
Robertson, J.
Milne, W.I.
Hatzopoulos, N.
Yankov, R.A.
Weiler, M.
机构：
来源：
Applied Physics Letters
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75卷
/
05期
关键词：
D O I：
暂无
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