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DISSOCIATION DYNAMICS OF ENERGY-SELECTED HEXAMETHYLDISILANE IONS AND THE HEATS OF FORMATION OF (CH3)3Si + AND (CH3)3Si.
被引：0
作者：
Szepes, Laszlo
Baer, Tomas
机构：
来源：
Journal of the American Chemical Society
|
1984年
/
106卷
/
02期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
36
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页码：273 / 278
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