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Photoreflectance characterisation of Ar+ ion etched and SiCl4 reactive ion etched silicon (100)
被引：0
作者：
Murtagh, M.
Lynch, S. M.
Kelly, P. V.
Hildebrandt, S.
机构：
来源：
Materials Science and Technology
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/
13卷
/
11期
关键词：
D O I：
暂无
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