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Etching a single micrometer-size particle in a plasma
被引：0
作者：
Stoffels, W.W.
Stoffels, E.
Swinkels, G.H.P.M.
Boufnichel, M.
Kroesen, G.M.W.
机构：
来源：
Physical Review E. Statistical Physics, Plasmas, Fluids, and Related Interdisciplinary Topics
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1999年
/
59卷
/
2-B期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
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