Formation kinetics and infrared absorption of carbon-oxygen complexes in czochralski silicon

被引：0

作者：

Yamanaka, Hideki ^{[1
]}

机构：

[1] Huls Japan, Ltd, Utsunomiya, Japan

来源：

| 1600年 / JJAP, Minato-ku, Japan卷 / 33期

关键词：

Silicon;

D O I：

暂无

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学科分类号：

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