Analysis of high-confinement SiGe/Si waveguides for silicon-based optoelectronics

被引：0

作者：

Pogossian, S.P. ^{[1
,3
]}

Vescan, L. ^{[1
]}

Vonsovici, A. ^{[2
]}

机构：

[1] Inst. fur Schicht und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH, D-52425 Jülich, Germany

[2] Dept. of Electron. and Elec. Eng., University of Surrey, Guildford GU2 XH, United Kingdom

[3] Lab. de Magnet. de Bretagne, UFR Sciences, Univ. de Bretagne Occidentale, 6, avenue Le Gorgeu, Brest Cedex, 29285, France

来源：

Journal of the Optical Society of America A: Optics and Image Science, and Vision | 1999年 / 16卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

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