Influence of deposition temperature on the structure of microcrystalline silicon film

被引：0

作者：

Key Laboratory of Material Physics, Department of Physics, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, China ^{[1
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机构：

来源：

Wuli Xuebao | 2007年 / 7卷 / 4122-4126期

关键词：

D O I：

暂无

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摘要：

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