Fluorine in preamorphized Si: Point defect engineering and control of dopant diffusion

被引：0

作者：

Impellizzeri, G. ^{[1
]}

Mirabella, S. ^{[1
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Priolo, F. ^{[1
]}

Napolitani, E. ^{[2
]}

Carnera, A. ^{[2
]}

机构：

[1] MATIS - CNR-INFM, Dipartimento di Fisica Ed Astronomia, Universit di Catania, Via S. Sofia 64, 95123 Catania, Italy

[2] MATIS - CNR-INFM, Dipartimento di Fisica, Universit di Padova, Via Marzolo 8, 35131 Padova, Italy

来源：

Journal of Applied Physics | 2006年 / 99卷 / 10期

关键词：

Fluorine;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Journal article (JA)

引用