Depth profile characterization of spin-coated poly(3,4- ethylenedioxythiophene):poly(styrene sulfonic acid) films for thin-film solar cells during argon plasma etching by spectroscopic ellipsometry

被引：0

作者：

Ino, Tomohisa ^{[1
]}

Hayashi, Tatsuya ^{[1
]}

Ueno, Keiji ^{[1
]}

Shirai, Hajime ^{[1
]}

机构：

[1] Graduate School of Science and Engineering, Saitama University, Saitama 338-8570, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics | 2011年 / 50卷 / 8 PART 2期

关键词：

Compendex;

D O I：

08JG02

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Spectroscopic ellipsometry

引用