Properties of Al2O3 insulating film using the ALD method for nonvolatile memory application

被引：0

作者：

Jung, Soon-Won

Lee, Ki-Sik

Koo, Kyung-Wan

机构：

来源：

Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers | 2009年 / 58卷 / 12期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Atomic layer deposition

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