Density functional theory study of Cu adhesion on Rh, Ir, Pd, Ta, Mo, Ru, Co, and Os surfaces

被引：0

作者：

State Key Lab of ASIC and Systems, Department of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China ^{[1
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机构：

来源：

Jpn. J. Appl. Phys. | / 10 PART 1卷

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Lattice mismatch

引用