In situ spectroscopic ellipsometry study on the growth of ultrathin TiN films by plasma-assisted atomic layer deposition

被引：0

作者：

Langereis, E. ^{[1
]}

Heil, S.B.S. ^{[1
]}

Van De Sanden, M.C.M. ^{[1
]}

Kessels, W.M.M. ^{[1
]}

机构：

[1] Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, Netherlands

来源：

Journal of Applied Physics | 2006年 / 100卷 / 02期

关键词：

Ultrathin films;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Journal article (JA)

引用