Impacts of CF+, CF2+, CF3+, and Ar ion beam bombardment with energies of 100 and 400eV on surface modification of photoresist

被引：0

作者：

Graduate School of Engineering, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan ^{[1
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不详 ^{[2
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机构：

来源：

Jpn. J. Appl. Phys. | / 8 PART 2卷

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Photoresists

引用