Interface-induced phenomena in polarization response of ferroelectric thin films

被引：0

作者：

Tagantsev, A.K. ^{[1
]}

Gerra, G. ^{[1
]}

机构：

[1] Ceramics Laboratory, Swiss Federal Institute of Technology (EPFL), CH-1015 Lausanne, Switzerland

来源：

Journal of Applied Physics | 2006年 / 100卷 / 05期

关键词：

Ferroelectric thin films;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Journal article (JA)

引用