Irradiation-damages in atmospheric plasma used in a resist ashing process for thin film transistors

被引：0

作者：

Institute of Fluid Science, Tohoku University, 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, Japan ^{[1
]}

不详 ^{[2
]}

不详 ^{[3
]}

机构：

来源：

Jpn. J. Appl. Phys. | / 3 PART 3卷

关键词：

Compendex;

D O I：

03B009

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Thin film transistors

引用