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Influence of plasma-chemical processing on the electrical features of InGaAsP/InP photodiodes
被引：0
作者：
Andreev, D.S.
Budtolaeva, A.K.
Ogneva, O.V.
Chinareva, I.V.
机构：
来源：
Applied Physics
|
2014年
/
03期
关键词：
Semiconductor alloys;
D O I：
暂无
中图分类号：
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页码：79 / 82
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