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Study on simulation of silicon anisotropic etching using cellular automata method
被引:0
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作者
:
Key Laboratory of MEMS, Southeast University, Nanjing 210096, China
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Key Laboratory of MEMS, Southeast University, Nanjing 210096, China
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机构
:
来源
:
Guti Dianzixue Yanjiu Yu Jinzhan
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2006年
/ 1卷
/ 128-133期
关键词
:
11;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
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