Study on simulation of silicon anisotropic etching using cellular automata method

被引:0
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作者
Key Laboratory of MEMS, Southeast University, Nanjing 210096, China [1 ]
不详 [2 ]
机构
来源
Guti Dianzixue Yanjiu Yu Jinzhan | 2006年 / 1卷 / 128-133期
关键词
11;
D O I
暂无
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