Study on simulation of silicon anisotropic etching using cellular automata method

被引：0

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作者：

Key Laboratory of MEMS, Southeast University, Nanjing 210096, China ^{[1
]}

不详 ^{[2
]}

机构：

来源：

Guti Dianzixue Yanjiu Yu Jinzhan | 2006年 / 1卷 / 128-133期

关键词：

11;

D O I：

暂无

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学科分类号：

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