Atomic-scale understanding of the HCl oxidation over RuO2, a novel deacon process

被引：0

作者：

Over, Herbert ^{[1
]}

机构：

[1] Physikalisch-Chemisches Institut, Justus-Liebig-Universität Gießen, Heinrich-Buff-Ring 58, D-35392 Gießen, Germany

来源：

Journal of Physical Chemistry C | 2012年 / 116卷 / 12期

关键词：

Active surface sites - Dissociative adsorption - Dissociative oxygen adsorption - Elementary reaction - Heterolytic cleavage - Lower reaction temperature - Rate determining step - Surface science techniques;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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