Optimization of etching power for surface-modified diamond films based on inductively coupled oxygen plasma

被引：0

作者：

Zhang, Kai-Liang ^{[1
]}

Wang, Sha-Sha ^{[1
]}

Wang, Fang ^{[1
]}

Wu, Xiao-Guo ^{[1
]}

Sun, Da-Zhi ^{[1
]}

机构：

[1] Tianjin Key Laboratory of Film Electronic and Communication Devices, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384, China

来源：

Guangdianzi Jiguang/Journal of Optoelectronics Laser | 2011年 / 22卷 / 07期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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