Metal-Assisted chemical etching using silica nanoparticle for the fabrication of a silicon nanowire array

被引：0

作者：

Kato, Shinya ^{[1
]}

Watanabe, Yuya ^{[1
]}

Kurokawa, Yasuyoshi ^{[1
]}

Yamada, Akira ^{[1
,2
]}

Ohta, Yoshimi ^{[3
]}

Niwa, Yusuke ^{[3
]}

Hirota, Masaki ^{[3
]}

机构：

[1] Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan

[2] Photovoltaics Research Center (PVREC), Tokyo Institute of Technology, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan

[3] Advanced Materials Laboratory, Nissan Research Center, Yokosuka, Kanagawa 237-8523, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics | 2012年 / 51卷 / 2 PART 2期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Silica nanoparticles

引用