A new validity index based on intra-cluster variation and inter-cluster overlap

被引：0

作者：

Ben, Sheng-Lan ^{[1
]}

Su, Guang-Da ^{[1
]}

机构：

[1] Department of Electronic Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China

来源：

Guangdianzi Jiguang/Journal of Optoelectronics Laser | 2010年 / 21卷 / 02期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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