Low-temperature deposition of polycrystalline silicon thin films by ECR-PECVD

被引：0

作者：

Wang, Yan-Yan ^{[1
]}

Qin, Fu-Wen ^{[1
]}

Wu, Ai-Min ^{[1
]}

Feng, Qing-Hao ^{[1
]}

机构：

[1] State Key Lab. of Material Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China

来源：

Bandaoti Guangdian/Semiconductor Optoelectronics | 2006年 / 27卷 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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