Strain profile of (001) silicon implanted with nitrogen by plasma immersion

被引：0

作者：

Laboratório Associado de Sensores e Materiais-LAS, Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais-INPE, CP 515, 12245-970 Sao Jose dos Campos, SP, Brazil ^{[1
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机构：

来源：

Journal of Applied Physics | 2007年 / 101卷 / 10期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Journal article (JA)

引用