Low-temperature fabrication technologies of Si solar cell by sputter epitaxy method

被引：0

作者：

Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo ^{[1
]}

184-8588, Japan

机构：

来源：

Jpn. J. Appl. Phys. | / 8卷

关键词：

D O I：

08KD01

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Energy conversion efficiency - Temperature - Magnetron sputtering - Silicon solar cells - Fabrication - Fluorine compounds - Silicon

引用