Effects of processing parameters on the properties of tantalum nitride thin films deposited by reactive sputtering

被引：0

作者：

Nazon, J. ^{[1
]}

Sarradin, J. ^{[1
]}

Flaud, V. ^{[1
]}

Tedenac, J.C. ^{[1
]}

Fréty, N. ^{[1
]}

机构：

[1] Institut Charles Gerhardt, UMR 5253 CNRS-UM2-ENSCM-UM1, cc 1504, Place E. Bataillon, 34095 Montpellier Cedex 5, France

来源：

Journal of Alloys and Compounds | 2008年 / 464卷 / 1-2期

关键词：

23;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Journal article (JA)

引用

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