Photoemission study of tris(8-hydroxyquinoline) aluminum/aluminum oxide/tris(8-hydroxyquinoline) aluminum interface

被引：0

作者：

Ding, Huanjun ^{[1
]}

Zorba, Serkan ^{[1
]}

Gao, Yongli ^{[1
]}

Ma, Liping ^{[2
]}

Yang, Yang ^{[2
]}

机构：

[1] Department of Physics and Astronomy, University of Rochester, Rochester, NY 14627, United States

[2] Department of Materials Science and Engineering, University of California, Los Angeles, CA 90095

来源：

Journal of Applied Physics | 2006年 / 100卷 / 11期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Journal article (JA)

引用