Impact of process-effect correction strategies on variability of critical dimension and electrical characteristics in extreme ultraviolet lithography

被引：0

作者：

Department of Electrical Engineering, National Taiwan University, Taipei 10617, Taiwan ^{[1
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不详 ^{[2
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不详 ^{[3
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机构：

来源：

Jpn. J. Appl. Phys. | / 6 PART 2卷

关键词：

D O I：

06GB07

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Physical properties

引用