Zweidimensionale (2D) Halbleiter haben sich aufgrund ihrer einzigarti- gen atomaren Schichtstruktur und ihrer speziellen Oberfläche als viel- versprechende Kandidaten erwiesen. Die klassischen Si-Metalloxid-Halb- leiter-Feldeffekttransistoren (MOS- FET) leiden unter diesem Nachteil. 2D-Halbleiter wie einlagiges MOS, haben aufgrund ihrer außergewöhn- lichen elektronischen und optischen Eigenschaften große Aufmerksamkeit auf sich gezogen.