Correlation between properties of Ta2O5 thin films and preparative parameters by ion beam sputtering deposition

被引：0

作者：

Liu, Huasong ^{[1
]}

Fu, Xuan ^{[2
]}

Wang, Lishuan ^{[1
]}

Jiang, Yugang ^{[1
]}

Leng, Jian ^{[1
]}

Zhuang, Kewen ^{[1
]}

Ji, Yiqin ^{[1
]}

机构：

[1] Tianjin Key Laboratory of Optical Thin Film, Tianjin Jinhang Institute of Technical Physics, Tianjin 300192, China

[2] Military Representative Office of Second Artillery Corps in Tianjin, Tianjin 300192, China

来源：

Hongwai yu Jiguang Gongcheng/Infrared and Laser Engineering | 2013年 / 42卷 / 07期

关键词：

Deposition rates;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1770 / 1775