Silicide-induced stress in Si: Origin and consequences for MOS technologies

被引：0

作者：

Steegen, An ^{[1
,2
]}

Maex, Karen ^{[1
,2
]}

机构：

[1] IMEC, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium

[2] E.E. Department, K.U. Leuven, Leuven, Belgium

来源：

关键词：

Metal alloys - Silicides;

D O I：

10.1016/s0927-796x(02)00006-2

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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