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Preparing conductive transparent ITO films by RF magnetron sputtering with low self bias voltage and study on its self bias
被引：0
作者：
机构：
[1] Ishida, T.
来源：
Ishida, T.
|
2001年
/
Vacuum Society of Japan卷
/
44期
关键词：
D O I：
10.3131/jvsj.44.747
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
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