Future semiconductor material requirements and innovations as projected in the ITRS 2005 roadmap

被引：0

作者：

Arden, Wolfgang ^{[1
]}

机构：

[1] Infineon Technologies, Am Campeon 1-12, D 85579 Neubiberg, Germany

来源：

Mater Sci Eng B | 1600年 / 2-3 SPEC. ISS.卷 / 104-108期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

CMOS integrated circuits - Dielectric materials - Engineering research - Integrated circuits - Lithography - Permittivity

引用