Plasma Diagnostics in Pulsed Plasma Doping System

被引：0

作者：

Varian Semiconduct. Equip. Assoc., 35 Dory Road, Gloucester, MA 01930, United States ^{[1
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不详 ^{[2
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不详 ^{[3
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机构：

来源：

Plasma Science and Applications Committee of IEEE | 1600年 / 263卷 / 2003期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Doping (additives) - Ion implantation - Laser applications - Plasma etching - Rapid thermal annealing - Semiconductor devices - Silicon wafers

引用