Work function of scratched silicon surface during O2 and N2 adsorption

被引：0

作者：

Nakayama, Keiji ^{[1
]}

Zhang, Lulu ^{[1
]}

机构：

[1] Mechanical Engineering Laboratory, Namiki 1-2, Tsukuba, Ibaraki 305-8564, Japan

来源：

| 2000年 / JJAP, Tokyo, Japan卷 / 39期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Silicon

引用