Studies of energy dissipation distribution in low-energy electron beam lithography by Monte Carlo method

被引：0

作者：

Ren, Li-Ming

Chen, Bao-Qin

Tan, Zhen-Yu

机构：

[1] Microelectronics R and D Center, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China

[2] Electric Engineering College, Shandong University, Jinan 250061, China

来源：

Wuli Xuebao/Acta Physica Sinica | 2002年 / 51卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

引用

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