Evaluation of microstructure for high-strength reaction-sintered silicon carbide

被引：2

作者：

Itoh, Yoshiyasu ^{[1
]}

Suyama, Shoko ^{[1
]}

机构：

[1] Power and Industrial Systems R and D Center, Toshiba, Corporation, Tsurumi-ku, Yokohama, 230-0045, Japan

来源：

关键词：

Compendex;

D O I：

10.2472/jsms.57.304

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Transmission electron microscopy - X ray diffraction analysis - Sintering - Crystal microstructure - Electron diffraction

引用

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