Characterization of ZnO:Al films deposited on organic substrate by r.f. magnetron sputtering

被引：0

作者：

Ma, Jin ^{[1
]}

Hao, Xiaotao ^{[1
]}

Zhang, Shiyong ^{[2
]}

Ma, Honglei ^{[1
]}

机构：

[1] Sch. of Phys. and Microelectronics, Inst. of Optoelectron. Mat., Shandong Univ., Ji'nan 250100, China

[2] Inst. of Sci., Chang An Univ., Xi'an 710064, China

来源：

Journal of Materials Science and Technology | 2003年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

引用

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