Influence of defects in SiOx thin films on their barrier properties

被引：0

作者：

Grüniger, A. ^{[1
]}

Von Rohr, Ph. Rudolf ^{[1
]}

机构：

[1] Swiss Fed. Inst. of Technol. Zurich, Institute of Process Engineering, CH-8092 Zurich, Switzerland

来源：

Thin Solid Films | / 1-2卷 / 308-312期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Composite materials - Crack initiation - Deposition - Diffusion - Laminates - Packaging materials - Plastic films - Silica

引用