Current-induced joule heating used to crystallize silicon thin films

被引：0

作者：

Sameshima, Toshiyuki ^{[1
]}

Ozaki, Kentaro ^{[1
]}

机构：

[1] Tokyo Univ of Agriculture and, Technology, Tokyo, Japan

来源：

| 1600年 / JJAP, Tokyo卷 / 39期

关键词：

D O I：

暂无

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