3-D profile evolution method for ion etching simulation

被引：0

作者：

Yang, Hongjun ^{[1
,2
]}

Song, Yixu ^{[1
]}

Jia, Peifa ^{[1
]}

机构：

[1] Tsinghua National Laboratory for Information Science and Technology, Department of Computer Science and Technology, Tsinghua University, Beijing,100084, China

[2] Shenyang Artillery Academy, Shenyang,110162, China

来源：

Qinghua Daxue Xuebao/Journal of Tsinghua University | 2014年 / 54卷 / 10期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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