Mechanisms of near-ultraviolet, nanosecond-pulse-laser damage in HfO2/SiO2-based multilayer coatings

被引：3

作者：

Papernov, S. ^{[1
]}

机构：

[1] Laboratory for Laser Energetics, University of Rochester, Rochester, NY 14623-1299, United States

来源：

关键词：

Hafnium oxides - Optical materials - Silica - Ultraviolet lasers - Coatings - Melting point;

D O I：

10.3788/COL201311.S10703

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用