Strong anisotropy in thin magnetic films deposited on obliquely sputtered Ta underlayers

被引：0

作者：

McMichael, R.D.

Lee, C.G.

Bonevich, J.E.

Chen, P.J.

Miller, W.

Egelhoff, Jr., W.F.

机构：

[1] Natl. Inst. of Std. and Technology, Gaithersburg, MD 20899, United States

[2] Dept. of Metall. and Mat. Science, Changwon National University, Changwon, Kyungnam 641-773, Korea, Republic of

来源：

| 1600年 / American Institute of Physics Inc.卷 / 88期

关键词：

D O I：

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