Sparse field level set method for non-convex Hamiltonians in 3D plasma etching profile simulations

被引：0

作者：

Department of Electronic and Electrical Engineering, Pohang University of Science and Technology, Pohang 790-784, Korea, Republic of ^{[1
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机构：

来源：

| 1600年 / 127-132卷 / January 15, 2006期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Computer simulation - Deposition - Etching - Hamiltonians - Topology

引用