Stability of 180° domain in ferroelectric thin films

被引：0

作者：

Wang, Biao ^{[1
,2
]}

Woo, C.H. ^{[1
]}

机构：

[1] [1,Wang, Biao

[2] Woo, C.H.

来源：

Woo, C.H. (mmchwoo@polyu.edu.hk) | 1600年 / American Institute of Physics Inc.卷 / 94期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

(Edited Abstract)

引用