Dry etching of SiO2 thin films with perfluoropropenoxide-O2 and perfluoropropene-O2 plasmas

被引：0

作者：

Fracassi, Francesco ^{[1
]}

D'Agostino, Riccardo ^{[1
]}

Fornelli, Antonella ^{[1
]}

Shirafuji, Tatsuru ^{[2
]}

机构：

[1] Fracassi, Francesco

[2] D'Agostino, Riccardo

[3] Fornelli, Antonella

[4] Shirafuji, Tatsuru

来源：

Fracassi, F. (fracassi@chimica.uniba.it) | 1600年 / Japan Society of Applied Physics卷 / 41期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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