首页
学术期刊
论文检测
AIGC检测
热点
更多
数据
Effects of tensile stress on growth of Ni-metal-induced lateral crystallization of amorphous silicon
被引:0
作者
:
机构
:
[1]
Hou, Chih-Yuan
[2]
Wu, Yew Chung Sermon
来源
:
Wu, Y.C.S. (SermonWu@StanfordAlumni.org)
|
1600年
/ Japan Society of Applied Physics卷
/ 44期
关键词
:
Amorphous silicon;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
引用
收藏
相关论文
未找到相关数据
未找到相关数据