Studies on ultrathin silicon oxide films and their current problems

被引：0

作者：

Hattori, T. ^{[1
]}

机构：

[1] Dept. of Elec. and Electronic Eng., Faculty of Engineering, Musashi Institute of Technology, 1-28-1 Tamazutsumi, Setagaya-ku, 158-8557 Tokyo, Japan

来源：

Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan | 2001年 / 44卷 / 08期

关键词：

All Open Access; Bronze;

D O I：

10.3131/jvsj.44.695

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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