Rhodium and Rhodium Oxide Thin Films Characterized by XPS

被引：72

作者：

Abe, Yoshio ^{[1
]}

Kato, Kiyohiko ^{[1
]}

Kawamura, Midori ^{[1
]}

Sasaki, Katsutaka ^{[1
]}

机构：

[1] Department of Materials Science, Kitami Institute of Technology, 165 Koen-cho, Kitami,090-8507, Japan

来源：

Surface Science Spectra | 2001年 / 8卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/11.20010801

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Rhodium compounds

引用

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