Interpretation of dominant impurities in Cu films by secondary ion mass spectrometry and glow discharge mass spectrometry

被引：0

作者：

Lim, Jae-Won ^{[1
]}

Bae, Joon Woo ^{[1
]}

Mimura, Kouji ^{[1
]}

Isshiki, Minoru ^{[1
]}

机构：

[1] Inst. Multidisc. Res. for Adv. Mat., Tohoku University, Sendai 980-8577, Japan

来源：

Jpn J Appl Phys Part 1 Regul Pap Short Note Rev Pap | / 1 A卷 / 373-374期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Electric potential - Electromigration - Glow discharges - Ion beams - Pressure effects - Schematic diagrams - Secondary ion mass spectrometry - Silicon - Thin films

引用