Monte Carlo study of Ti film on Al substrate under high-intensity pulsed ion beam irradiation

被引：0

作者：

Wu, Di ^{[1
]}

Wang, Jing ^{[1
]}

Zhang, Jianhong ^{[2
]}

Gong, Ye ^{[2
]}

机构：

[1] College of Physical Science and Technology, Dalian University, Dalian 116622, China

[2] Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China

来源：

Jisuan Wuli/Chinese Journal of Computational Physics | 2010年 / 27卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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